ICC訊 (編輯:Nicole) 東莞銘普光磁股份有限公司(以下簡稱:銘普光磁或公司)于近日取得一項(xiàng)中華人民共和國國家知識產(chǎn)權(quán)局頒發(fā)的“一種光模塊參數(shù)配置方法、裝置、設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)”發(fā)明專利證書。
該發(fā)明公開了一種光模塊參數(shù)配置方法、裝置、設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì),包括:將光模塊放置在高溫環(huán)境下,當(dāng) MCU 溫度指針達(dá)到目標(biāo)工作溫度時(shí),調(diào)節(jié)激光器核心溫度值、偏壓電流值和 VEA 值,使光模塊的光功率、消光比、通道代價(jià)滿足目標(biāo)值;以光模塊中 MCU 溫度指針為索引,根據(jù)服務(wù)器上預(yù)先存儲(chǔ)的數(shù)據(jù)庫中激光器核心溫度值、VEA 值與調(diào)節(jié)后的激光器核心溫度值、VEA 值的對應(yīng)關(guān)系,動(dòng)態(tài)更新本地?cái)?shù)據(jù)庫中激光器核心溫度值、VEA 值;在常溫和低溫下分別測試光模塊的光功率、消光比和通道代價(jià),若性能正常,則完成參數(shù)配置。
本申請通過上述步驟將帶 EML 激光器的光模塊在高溫調(diào)試和常溫低溫測試,即能制作成品率高和合格率高的產(chǎn)品。
具體情況如下:
證書號:第 4084859 號
發(fā)明名稱:一種光模塊參數(shù)配置方法、裝置、設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)
專利號: ZL 2018 1 1603013.2
專利類型:發(fā)明專利
專利申請日:2018 年 12 月 26 日
專利權(quán)人:東莞銘普光磁股份有限公司
授權(quán)公告日:2020 年 11 月 10 日
專利權(quán)期限:20 年(自申請日起算)
銘普光磁表示獲得發(fā)明專利有利于充分發(fā)揮公司自主知識產(chǎn)權(quán)優(yōu)勢,完善知識產(chǎn)權(quán)保護(hù)體系,對公司開拓市場及推廣產(chǎn)品產(chǎn)生積極的影響,形成持續(xù)創(chuàng)新機(jī)制,提升公司核心競爭力。
新聞來源:訊石光通訊網(wǎng)