臺(tái)媒：臺(tái)積電明年資本支出將維持在400億美元以上

  ICC訊 據(jù)臺(tái)灣《工商時(shí)報(bào)》9月13日?qǐng)?bào)道，設(shè)備業(yè)界傳出，臺(tái)積電下半年資本支出大幅提升，明年亦將維持在400億美元以上高檔，主要是為了2023-2025年來自蘋果、英特爾、AMD、輝達(dá)等大客戶的3納米晶圓代工強(qiáng)勁需求做好準(zhǔn)備。臺(tái)積電說明，過去三年當(dāng)中資本支出增加超過一倍，從2019年低于150億美元，增加至2021年的300億美元，再到2022年的大約400億美元，為先進(jìn)制程、成熟制程、3DFabric先進(jìn)封裝等建置產(chǎn)能。