ICC訊 陜西光電子先導(dǎo)院先進(jìn)光子器件工程創(chuàng)新平臺(tái)在西安全面啟用。該平臺(tái)具備光子芯片制程中的光刻、刻蝕、蒸鍍等多項(xiàng)核心工藝,將為光子產(chǎn)業(yè)項(xiàng)目提供產(chǎn)品研發(fā)、中試、檢測(cè)等全流程技術(shù)服務(wù),為光子產(chǎn)業(yè)各類(lèi)創(chuàng)新主體打通從產(chǎn)品研發(fā)到市場(chǎng)化批量供貨的完整鏈條。
據(jù)了解,先進(jìn)光子器件工程創(chuàng)新平臺(tái)占地30畝,建有中試車(chē)間、中試大樓、綜合樓和動(dòng)力站等研發(fā)和中試配套設(shè)施,總建筑面積約30000平方米,潔凈廠房3000平方米,一期專(zhuān)業(yè)設(shè)備100余臺(tái)(套),具備以GaAs(砷化鎵)、GaN(氮化鎵)為主線,圍繞6英寸化合物芯片工藝服務(wù)能力的柔性中試平臺(tái),以技術(shù)服務(wù)與工程代工相結(jié)合的形式,為光子產(chǎn)業(yè)孵化項(xiàng)目提供產(chǎn)品研發(fā)、中試、檢測(cè)等全流程技術(shù)服務(wù)。
此外,該創(chuàng)新平臺(tái)將有效解決第三代化合物半導(dǎo)體芯片制造的外延生長(zhǎng)與制程等關(guān)鍵問(wèn)題,為光電芯片、功率器件、射頻器件等芯片設(shè)計(jì)企業(yè)、高校、科研院所提供外延生長(zhǎng)、光刻、刻蝕、薄膜制備、清洗、減薄、拋光、劃片等芯片制造全流程服務(wù)。
光電子先導(dǎo)院稱(chēng),該平臺(tái)的啟用標(biāo)志著陜西向打造具有全球影響力的光子產(chǎn)業(yè)生態(tài)高地的戰(zhàn)略目標(biāo)又邁出了堅(jiān)實(shí)的一步,將吸引更多光子產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新要素匯聚陜西,培育一批具有先發(fā)優(yōu)勢(shì)和全球競(jìng)爭(zhēng)力的光子產(chǎn)業(yè)企業(yè),推動(dòng)光子產(chǎn)業(yè)向集群化、規(guī)?;?、高產(chǎn)值化發(fā)展。目前,陜西光電子先導(dǎo)院已培育和聚集了近百家光子產(chǎn)業(yè)企業(yè),入駐光電子領(lǐng)域企業(yè)30余家。
新聞來(lái)源:半導(dǎo)體芯科技SiSC
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