ICC訊 據(jù)報道,日本初創(chuàng)晶圓代工廠Rapidus已成功接收其訂購的首臺ASML EUV光刻機,這是日本境內首次引入量產用EUV光刻設備。
Rapidus也成為日本首家擁有EUV光刻機的公司,由于EUV系統(tǒng)體積龐大,完整設備重達71噸,將分四階段進行安裝,預計本月底在晶圓廠內完成。
Rapidus首席執(zhí)行官小池淳義在新千歲機場舉行的典禮上表示,公司將從北海道和日本向全球提供最先進半導體。
Rapidus計劃2025年春季完成2nm芯片原型開發(fā),并在2027年實現(xiàn)量產,相比之下臺積電則計劃2025年開始量產2nm芯片。
ASML是目前全球唯一的EUV光刻機供應商,每臺設備成本約1.8億美元以上,去年全球僅交貨了42臺。
資料顯示,日本曾在1980年代占據(jù)全球超過50%的半導體市場份額,但到2000年代已退出先進邏輯制程芯片的競爭。
Rapidus的成立旨在重振日本先進芯片的生產能力,降低對進口芯片的依賴,日本政府目標到2030年實現(xiàn)國內半導體銷售額達15萬億日元,達到2020年的三倍。
新聞來源:快科技