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OpenLight與Tower Semiconductor驗(yàn)證400G每通道硅光調(diào)制器性能

摘要:OpenLight與Tower Semiconductor基于商用化集成硅光平臺(tái),PH18DA成功驗(yàn)證了400G每通道調(diào)制器性能,為下一代3.2T及更高速率DR8/FR4提供商業(yè)化可行路徑。

  創(chuàng)新推動(dòng)高量產(chǎn)硅光400每通道平臺(tái),滿(mǎn)足下一代3.2T光通信架構(gòu)需求

  ICC訊 3月12日,全球定制化PASIC芯片設(shè)計(jì)與制造領(lǐng)導(dǎo)者OpenLight,與高價(jià)值模擬半導(dǎo)體解決方案領(lǐng)先代工廠Tower Semiconductor,宣布基于商用化集成硅光平臺(tái),PH18DA成功驗(yàn)證了400G每通道調(diào)制器性能。該調(diào)制器采用行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)PAM-4調(diào)制格式,驅(qū)動(dòng)電壓峰峰值僅需0.6伏,消光比優(yōu)于3.5分貝。此次400G演示基于OpenLight的硅光知識(shí)產(chǎn)權(quán)(IP),并采用Tower Semiconductor現(xiàn)有硅光平臺(tái)實(shí)現(xiàn)流片(該平臺(tái)已支持客戶(hù)實(shí)現(xiàn)100G及200G每通道應(yīng)用)。

  此次集成硅光技術(shù)Demo旨在支持下一代400G每通道的光通信架構(gòu),提供從100G、200G到400G的可擴(kuò)展解決方案,以滿(mǎn)足云計(jì)算、人工智能(AI)及機(jī)器學(xué)習(xí)(ML)應(yīng)用對(duì)高速數(shù)據(jù)傳輸?shù)目焖僭鲩L(zhǎng)需求。通過(guò)在所有四個(gè)粗波分復(fù)用(CWDM)波長(zhǎng)上實(shí)現(xiàn)400G每通道傳輸,該技術(shù)為下一代3.2Tbps及更高速率的DR8與FR4解決方案提供了商業(yè)化可行路徑。

  目前,由于純硅基調(diào)制器無(wú)法支持400G比特率,使得業(yè)界迫切需要一種高性?xún)r(jià)比解決方案。針對(duì)數(shù)據(jù)中心與AI應(yīng)用(包括線(xiàn)性直驅(qū)LPO和共封裝光學(xué)CPO),基于異構(gòu)集成(heterogeneous integration)的器件展現(xiàn)出顯著優(yōu)勢(shì):小尺寸、高帶寬、低驅(qū)動(dòng)電壓,并可在硅光平臺(tái)上實(shí)現(xiàn)規(guī)?;慨a(chǎn)。除400G調(diào)制器的異構(gòu)集成外,該平臺(tái)還可將激光器、光放大器等元件在密集光子集成電路(PIC)中實(shí)現(xiàn)單片集成,兼顧成本與能效。

  OpenLight首席執(zhí)行官Dr. Adam Carter表示:“與Tower Semiconductor的合作是先進(jìn)硅光技術(shù)融入數(shù)據(jù)中心領(lǐng)域的關(guān)鍵一步。此次成功驗(yàn)證為高速網(wǎng)絡(luò)技術(shù)的突破性進(jìn)展奠定了基礎(chǔ)。借助現(xiàn)有200G異構(gòu)調(diào)制器設(shè)計(jì),我們助力客戶(hù)實(shí)現(xiàn)PASIC設(shè)計(jì)從100G、200G到400G每通道的平滑演進(jìn),有效縮短設(shè)計(jì)周期、布局優(yōu)化及上市時(shí)間 — 400G調(diào)制器可直接替換現(xiàn)有200G調(diào)制器PASIC設(shè)計(jì)。采用相同設(shè)計(jì)的另一優(yōu)勢(shì)在于已驗(yàn)證的高可靠性能,以及封裝至集成光學(xué)組件時(shí)使用倒裝(flip-chip)芯片工藝的能力。”

  Tower Semiconductor首席執(zhí)行官Russell Ellwanger表示:“我們很高興與OpenLight合作,利用其尖端硅光技術(shù)開(kāi)發(fā)支持400G/通道的高性?xún)r(jià)比方案。這是對(duì)現(xiàn)有PH18DA平臺(tái)(已支持100G及200G/通道)的延伸,現(xiàn)可為400G/通道提供成熟解決方案,并立即開(kāi)放客戶(hù)原型設(shè)計(jì)。這是為下一代光通信技術(shù)提供可擴(kuò)展、高可靠、高性能且可量產(chǎn)解決方案的重要里程碑。通過(guò)采用高塔PH18DA平臺(tái),此次合作使傲光科技的異構(gòu)集成技術(shù)無(wú)需依賴(lài)薄膜鈮酸鋰(TFLN)、鈦酸鋇(BTO)或聚合物等復(fù)雜昂貴替代方案,即可實(shí)現(xiàn)向更高速率的安全過(guò)渡?!?

  OpenLight和Tower Semiconductor將出席4月1-3日在美國(guó)舊金山舉辦的OFC 2025,OpenLight展位號(hào)# 4231,Tower Semiconductor 展位號(hào)#3222。

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