臺(tái)積電先進(jìn)制程何處建廠：2nm處理完畢，1.4nm待處理

  ICC訊 市場(chǎng)關(guān)注臺(tái)積電先進(jìn)制程何處建廠？中國(guó)臺(tái)灣“國(guó)科會(huì)”主委吳政忠表示，持續(xù)布局三大科學(xué)園區(qū)，可滿足臺(tái)積電建廠，“2nm預(yù)計(jì)處理完畢，現(xiàn)在剩下1.4nm”。

  針對(duì)臺(tái)積電1.4nm制程是否新開(kāi)科學(xué)園區(qū)，吳政忠表示，最好能利用既有園區(qū)。

  吳政忠表示，臺(tái)積電運(yùn)營(yíng)表現(xiàn)良好，除了到海外建廠，島內(nèi)方面，科學(xué)園區(qū)負(fù)責(zé)提供相關(guān)產(chǎn)業(yè)環(huán)境。至于臺(tái)積電具體布局如何，應(yīng)由臺(tái)積電公司對(duì)外公布。

  科學(xué)園區(qū)土地持續(xù)在布局，對(duì)于臺(tái)積電目前的需求，“將可以提供滿足”，2nm預(yù)計(jì)處理完畢，現(xiàn)在剩下1.4nm。

  根據(jù)臺(tái)積電規(guī)劃，2nm先進(jìn)工藝預(yù)計(jì)2025年量產(chǎn)，生產(chǎn)基地位于竹科寶山廠及高雄廠。其中，高雄廠原先規(guī)劃建設(shè)的2座廠，都將導(dǎo)入2nm制程。