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Intel芯片欲提升30% 5年內(nèi)趕超臺積電！

訊石光通訊網(wǎng)   發(fā)布時間:2021/12/28 15:39:15  編者:鼻涕泡泡崩一臉
摘要：Intel今年在3月份就已經(jīng)宣布IDM 2.0戰(zhàn)略，芯片擴產(chǎn)已經(jīng)迫在眉睫，據(jù)悉該計劃將在美國、歐洲、亞洲等地區(qū)建廠，以此來提升自己的產(chǎn)能目標。

      ICC訊 Intel今年在3月份就已經(jīng)宣布IDM 2.0戰(zhàn)略，芯片擴產(chǎn)已經(jīng)迫在眉睫，據(jù)悉該計劃將在美國、歐洲、亞洲等地區(qū)建廠，以此來提升自己的產(chǎn)能目標。

      業(yè)內(nèi)資深人士預估，Intel此番大舉擴張，預計在5年內(nèi)，也就是2026年的時候產(chǎn)能將增長30%以上，有望追趕臺積電。

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關(guān)鍵字: Intel 芯片 臺積電
文章標題:Intel芯片欲提升30% 5年內(nèi)趕超臺積電！
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