用戶名: 密碼: 驗證碼:

臺積電或公布2nm工藝細節(jié)：功耗降低30%

訊石光通訊網(wǎng)   發(fā)布時間:2022/8/31 17:29:57  編者:iccsz
摘要：在9月份量產(chǎn)3nm工藝之后，臺積電下一代的工藝也已經(jīng)在路上了，2nm工藝未來兩年中將接替3nm工藝。臺積電在6月份正式公布了2nm工藝，并透露了一些技術(shù)細節(jié)，相比3nm工藝，在相同功耗下，2nm速度快10~15%；相同速度下，功耗降低25~30%。

  ICC訊 在9月份量產(chǎn)3nm工藝之后，臺積電下一代的工藝也已經(jīng)在路上了，2nm工藝未來兩年中將接替3nm工藝。臺積電在6月份正式公布了2nm工藝，并透露了一些技術(shù)細節(jié)，相比3nm工藝，在相同功耗下，2nm速度快10~15%；相同速度下，功耗降低25~30%。

  不過在晶體管密度上，2nm工藝的提升就不那么讓人滿意了，相比3nm只提升了10%，遠低于以往至少70%的晶體管密度提升——按照摩爾定律來算，密度應(yīng)該提升100%才算新一代工藝。此外，臺積電2nm工藝的量產(chǎn)時間也要等到2025年下半年，這意味著終端產(chǎn)品出貨要等到2026年了，升級周期也要比當(dāng)前的節(jié)點慢不少。

  2nm工藝到底為什么密度提升有限？又有哪些首發(fā)客戶？這些關(guān)鍵問題還要臺積電解答，正好8月30日該公司還有技術(shù)論壇會議召開，2nm工藝勢必會是明天的焦點，臺積電屆時應(yīng)該會公布更多的細節(jié)信息。

內(nèi)容來自：中關(guān)村在線
本文地址：http://m.huaquanjd.cn//Site/CN/News/2022/08/31/20220831093051409779.htm 轉(zhuǎn)載請保留文章出處
關(guān)鍵字: 臺積電 2nm 工藝 功耗
文章標(biāo)題:臺積電或公布2nm工藝細節(jié)：功耗降低30%
【加入收藏夾】  【推薦給好友】 
1、凡本網(wǎng)注明“來源：訊石光通訊網(wǎng)”及標(biāo)有原創(chuàng)的所有作品，版權(quán)均屬于訊石光通訊網(wǎng)。未經(jīng)允許禁止轉(zhuǎn)載、摘編及鏡像，違者必究。對于經(jīng)過授權(quán)可以轉(zhuǎn)載我方內(nèi)容的單位，也必須保持轉(zhuǎn)載文章、圖像、音視頻的完整性，并完整標(biāo)注作者信息和本站來源。
2、免責(zé)聲明，凡本網(wǎng)注明“來源：XXX（非訊石光通訊網(wǎng)）”的作品，均為轉(zhuǎn)載自其它媒體，轉(zhuǎn)載目的在于傳遞更多信息，并不代表本網(wǎng)贊同其觀點和對其真實性負責(zé)。因可能存在第三方轉(zhuǎn)載無法確定原網(wǎng)地址，若作品內(nèi)容、版權(quán)爭議和其它問題，請聯(lián)系本網(wǎng)，將第一時間刪除。
聯(lián)系方式：訊石光通訊網(wǎng)新聞中心　電話：0755-82960080-168   Right